、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區(qū)分不同水質(zhì)。

超純水的水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)中所規(guī)定的各項(xiàng)指標(biāo)的主要依據(jù)有：1.微電子工藝對(duì)水質(zhì)的要求;2.制水工藝的水平; 3.檢測(cè)技術(shù)的現(xiàn)狀。

超純水在電子元器件生產(chǎn)中的重要作用日益突出

，超純水水質(zhì)已經(jīng)成為影響電子元器件產(chǎn)品質(zhì)量、生產(chǎn)成品率以及生產(chǎn)成本的重要因素之一，水質(zhì)要求也是越來(lái)越高。在電子元器件的生產(chǎn)過(guò)程當(dāng)中，超純水主要用作清洗用水以及用來(lái)配制各種溶液、漿料，不同的電子元器件在生產(chǎn)過(guò)程中純水的用途及對(duì)水質(zhì)的要求也略有不同。因此電子行業(yè)的生產(chǎn)用水離不開(kāi)超純水設(shè)備，這也是電子行業(yè)為啥為用超純水設(shè)備的原因。

電子行業(yè)超純水設(shè)備應(yīng)用領(lǐng)域：

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、半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路成品